通州M4D9-17划片刀

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主要用于对半导体硅晶圆、化合物半导体晶圆(SiC、GaAs、GaP等)、氧化物半导体晶圆(LiTaO3 等)等半导体晶圆进行、精密划切,实现芯片单体化。

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刀刃部分采用精密电铸工艺制备而成,刀刃厚度范围:10μm~100μm,微粉粒径范围:1500#~5000#。

拥有6档磨粒集中度等级,适用晶圆种类范围更广;具有出色的通用性,能够适应各种复杂场景的划切需求,包括切割道内含有金属、 Pl/PO等各类工况;在切割水含有CO2的环境中,表现出的耐腐蚀性能;在划切超厚晶圆时(如晶圆级封装芯片),槽型可稳定保持垂直状态。
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半导体晶圆切割用划片刀头在切割时,线速度是一个非常重要的参数,可以直接影响到切割效率和切割质量。 以下是关于金刚石刀头切割过程中线速度的介绍: 线速度是指切割线每分钟旋转的圈数,单位为m/min。 线速度过快,金刚石颗粒就会被削短,使刀头变钝,而且金刚石颗粒很容易掉落,影响切割质量。 线速度过慢,刀头会过度磨损,切割效率低下。 金刚石刀头切割时,应根据不同的材料选择合适的线速度。

崩边

正崩主要发生在晶圆的切割面(正面),背崩是指晶圆背面的崩边。不管正崩与背崩,在晶圆划片时都是不被允许的。崩边产生的原因有:

1,不恰当的切割参数导致崩边

2,刀片磨损严重,钝化的刀片边缘增加了切割过程中的不规则作用力,从而增加了崩边的可能性

3,刀片中的金刚石等磨料颗粒在切割过程中与晶圆表面材料发生撞击,导致崩边


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乐泰CP9410 贮存条件
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性能可能有影响. 不要将任何材料倒回原包装内,除了以上
所指出的以外,对于产品被污染或在某些条件下贮存,汉高有
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颗粒越大,刀片寿命越长;颗粒越小,刀片寿命越短。 颗粒集中度的影响 颗粒集中度对划片质量也非常关键。 关于相同的金刚石颗粒大小会消费出不同集中度的刀片,划片效果也会有很大差别。 目前,划片刀常见有5种规格,分别是:50、70、90、110、130。 依据实践测试得出,高集中度的金刚石颗粒,划片阻力小,划片速度快,,还能够延长划片刀的寿命,减少晶圆正面崩缺
高密度的金刚石颗粒可以延长划片刀的寿命,同时也可以减少晶圆背面崩角。而低密度的金刚石颗粒可以减少正面崩角。硬的粘结材料可以更好地“固定”金刚石颗粒,因而可以提高划片刀的寿命,而软的粘结材料能够加速金刚石颗粒的“自我锋利”(Self Sharpening)效应,令金刚石颗粒保持尖锐的棱角形状,因而可以减小晶圆的正面崩角或分层,但代价是划片刀寿命的缩短。刀锋的长度应根据晶圆的厚度,承载薄膜的厚度,大允许的崩角的尺寸来进行定义,刀锋不能选得过长,因为长的刀锋会在切割时引起刀片的摆动,会导致较大的崩角。

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